18 March 2026, 06:22

Aixtron liefert MOCVD-System für Galliumoxid-Forschung an die Ohio State University

Eine von Hand gezeichnete Schaltkreisdiagramm mit detaillierten Anmerkungen auf einem Papier, das mit mehreren Diagrammen und Text gefüllt ist.

Aixtron liefert MOCVD-System für Galliumoxid-Forschung an die Ohio State University

Die Ohio State University (OSU) hat ein spezialisiertes Metallorganische Gasphasenepitaxie-System (MOCVD) des Herstellers Aixtron für die Forschung an Galliumoxid ausgewählt. Die Anlage, die mit Aixtrons Close Coupled Showerhead®-Technologie (CCS) ausgestattet ist, wird im Nanotech West Lab der OSU installiert. Dieser Schritt festigt die Position von Aixtron als führender Ausrüster für Halbleitermaterialien der nächsten Generation.

Das von der OSU bestellte System ist für das epitaktische Wachstum von Galliumoxid und Aluminium-Galliumoxid auf 100-Millimeter-Substraten konzipiert. Die CCS-Technologie ermöglicht die Herstellung hochwertiger, gleichmäßiger Dünnschichten – eine entscheidende Voraussetzung für fortschrittliche Leistungselektronik. Besonders Galliumoxid gilt als vielversprechendes Material für zukünftige Ultra-Breitbandgap-Halbleiter.

In den vergangenen drei Jahren haben auch andere führende Forschungseinrichtungen MOCVD-Systeme von Aixtron für ähnliche Projekte eingeführt. Dazu zählen die University of California in Santa Barbara (USA), das Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik (IAF) in Deutschland, die National Tsing Hua University in Taiwan sowie das KAIST in Südkorea. Alle diese Institutionen erforschen Galliumoxid und verwandte Verbindungen für Halbleiteranwendungen der nächsten Generation.

Die Installation im Nanotech West Lab der OSU, das vom Institute for Materials and Manufacturing Research betrieben wird, unterstreicht Aixtrons Rolle bei der Unterstützung wegweisender akademischer und industrieller Projekte. Zwar bleibt der finanzielle Umfang dieses Einzelauftrags überschaubar, doch stärkt er den Ruf des Unternehmens als Technologieführer im Bereich MOCVD-Systeme.

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Aixtrons frühes Engagement in der Galliumoxid- und Ultra-Breitbandgap-Halbleiterforschung positioniert das Unternehmen als Vorreiter in der Leistungselektronik der Zukunft. Die Aktie von Aixtron notiert derzeit bei 18,79 Euro, deutlich über dem 200-Tage-Durchschnitt, was das wachsende Vertrauen der Anleger widerspiegelt. Die jüngste Partnerschaft mit der OSU untermauert zudem den zunehmenden Einfluss des Unternehmens bei der Entwicklung von Halbleitermaterialien der nächsten Generation.

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